Boletín RCLM #1 Junio-2020

Boletín #1 Junio-2020

Red Cuartos Limpios México

Óxido de silicio

¿Sabes como se produce el óxido de silicio?

El óxido de silicio, también denominado dióxido de silicio o sílice, es un material altamente usado en la industria semiconductora, especialmente en la tecnología MOS debido a sus ventajas relacionadas al procesamiento electrónico, su constante dieléctrico, su procesamiento selectivo, y a su acople mecánico y estructural por ser el oxido natural del silicio. Las películas de óxido de silicio son crecidas térmicamente.

Horno tubularHornos de alta temperatura

Para el crecimiento térmico se emplean hornos especializados, con atmósferas y temperaturas controladas.

Procesamiento de obleasProcesamiento

El procesamiento consta de someter las obleas de silicio a 1000 a 1300 °C, en atmósfera de nitrógeno y con un determinado flujo de arrastre de vapor de agua (crecimiento húmedo). El tiempo de crecimiento es determinado por el espesor requerido.

Obleas de silicio con SiO2Crecimiento de óxido de silicio

Como resultado del tratamiento térmico se obtienen películas de óxido de crecidas sobre silicio, las cuales son homogéneas eléctrica y estructuralmente.

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